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在电解电容器生产中，铝箔及工作件的清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂敷碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个显像管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。




电子水处理器工作时，水流由进水口进入仪器内部，在高频电磁场作用下，形成电磁极化水。这种水流经受热体时，形成针状结晶，成为松软、沙状软垢，便于沉淀，不易板结于受热面，可随水流动，通过排污渠道排出，防止新垢产生，电磁极化水渗透性和偶极距增大可浸润老垢，使之龟裂，脱落。此外，电磁极化水还可以杀灭水中的菌藻，抑制微生物的繁殖。因器壁金属离解受到抑制，对无垢系统有防腐作用

电子水处理器选型注意事项

1、一般情况下设备的用水适宜于道口径应与电子除垢器的进出口径一致，如设计管径加大，除垢器亦须与其相符。

2、在下列情况下，建议用户先用大一档的型号。

1）通过除垢器的水流速度大于2.8米/秒

2）水质总硬度大于1000mgCaCo3/L

3）水温≥80℃

除垢器一般设计承压为1.0MPa，承压如超过此标准时，需说明。

在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，与传统的水处理技术相比，膜技术具有工艺简单、操作方便、易于自动控制、能耗小、无污染、去除杂质、运行成本低等优点，特别是几种膜技术的配合使用，再辅之以其他水处理工艺，如石英砂过滤、活性炭吸附、脱气、离子交换、UV杀菌等，为去除水中的各种杂质，满足日益发展的电子工业对高纯水的需要，提供了有效而可靠的手段，而且也只有应用了多种膜技术，才能生产出合格、稳定的高纯水。